涂层的PVD技术: 增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效的控质,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。 过滤阴极弧:过滤阴极弧(FCA)配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生等离子体中的宏观粒子,离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为**,并且可以过滤掉大颗粒,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。 磁控溅射:在真空环境下,通过低电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子,原子或分子的形式被弹出并沉积在基材上形成薄膜。根据使用的电力电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。 离子束DLC:碳氢气体在离子源中被离化成等离子体,在电磁场的作用下,离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整在上的电压控制,碳氢离子束被引到基材上,沉积速度与离子电流密度成正比。德耐涂层的离子束采用高电压,因而离子能量更大,使得薄膜与基片结合力很好,离子电流更大,使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积薄膜以及多层结构,工艺控制精度可达0.5微米,并可将工艺过程中的颗粒污染所带来的缺陷降至较小。 真空膜的特点: 能在金属,半导体,绝缘体甚至塑料,纸张,织物表面上沉积金属,半导体,绝缘体,不同成分比的合金,化合物及部分**聚合物等的薄膜,其适用范围之广是其他方法无法与之比拟的;可以不同的沉积速度,不同于基板温度和不同的蒸汽分子入射角蒸镀成膜,因而可得到不同显激结构和结晶形态(单晶,多晶或非晶体等)的薄膜; 薄膜的纯度很高; 易于在线检测和控制薄膜的厚度与成分。厚度控制精度较高可达单分子层量级; 排出污染物很少且基本上没有。